1. 基于先進的3D激光直寫技術;
2. 從VIS到NIR都有較高的光學透過率;
3. 與光纖相似的模場直徑;
4. 較低的介電損耗,適用于20GHz+;
5. 兼容TGV通孔技術、硅光工藝平臺;
6. 高尺寸穩(wěn)定性、熱穩(wěn)定性和化學穩(wěn)定性;
7. 低傳輸損耗和耦合損耗;
8. 圓形截面、大小可控、兼容高階模式。
2. 從VIS到NIR都有較高的光學透過率;
3. 與光纖相似的模場直徑;
4. 較低的介電損耗,適用于20GHz+;
5. 兼容TGV通孔技術、硅光工藝平臺;
6. 高尺寸穩(wěn)定性、熱穩(wěn)定性和化學穩(wěn)定性;
7. 低傳輸損耗和耦合損耗;
8. 圓形截面、大小可控、兼容高階模式。" />
